牽手和分手來自同一雙手

今天開始
上課時間是從早上九點開始
呼...好久沒有這麼早上課了
果不其然，頭很暈啊...
昏昏沉沉的，聽何智煌先生在講廠房設備介紹
(民國66年6月6日開始進入半導體界，一聽到我就偷笑出來了 XD)

然而，大敗筆在於，我以為今天都是在實作
所以，什麼都沒帶，只帶了一顆疲憊的心情去工三館...
結果，當然是一個早上都在用耳朵，手完全沒派上用場
昨晚一點多睡，當時頭真的超昏 @@"

下午終於開始實作課程
今天內容也不多，主要就是先把wafer進行標準清洗(SPM)
再於攝氏1100度的高溫爐管內，通入氧氣與氫氣
在Si wafer(1,0,0)表面進行高溫氧化(濕氧化法)
長上5000A的SiO2
再利用旁邊的機器進行膜厚量測

除此之外，還順便看講師玩了旁邊的阿法-step跟橢圓儀
都是拿來測膜厚的~只是測量方法不一樣而已

唉，看來我現在只能藉由晚上在這裡review白天課程
藉此慰藉自己，真的有在學東西...

好累...
明天開始真的要一整天悶在FAB了...
真的不好玩...